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長期的な熱酸化ウェハー供給が国内のパワー半導体工場の量産安定化を支援

2026-08-03

国内のパワー半導体企業は、MOSFETチップの量産に注力しており、これまで数年間すべての熱酸化ウェハーを海外サプライヤーから調達していました。しかし、国境を越えた供給は継続的な運用上の課題をもたらしました。国際輸送スケジュールの変動、長期のリードタイム、増加する運賃および通関費用が、顧客の継続的な生産計画に大きな不確実性をもたらしました。予期せぬ納期遅延は原材料の在庫切れを引き起こしやすく、ウェハー加工ラインの停止や全体の生産コストの上昇を招きました。厳格なサンプルテスト、工場監査、複数回の性能評価を経て、同企業はLeweiを熱酸化ウェハーの主要な国内サプライヤーとして正式に選定し、より強靭な国内供給チェーンを構築しました。


当社は、均一な酸化膜厚、優れた表面平坦性、一貫した材料特性を持つSiO₂熱酸化ウェハーを製造しており、パワーデバイス製造のための顧客のカスタム技術仕様に厳密に準拠しています。すべての生産ロットは、酸化層厚さ測定、表面粗さ評価、欠陥密度スキャン、粒子汚染検査を含む包括的な品質検査を出荷前に受け、不良品が顧客の生産工程に入るのを防いでいます。信頼できる国内納品により、顧客の原材料在庫保管の負担が大幅に軽減され、高価な国際物流費用が削減され、材料調達サイクル全体が短縮されました。


1年以上にわたる安定した長期協力の中で、安定したウェハー品質が顧客のチップ製造歩留まりを顕著に向上させ、MOSFET生産時のウェハー関連の不良率を低減しました。顧客は複数のウェハーサイズ仕様の注文量を拡大し、Leweiを熱酸化ウェハー製品の最優先調達パートナーに位置付けました。この成功した協力事例は、他のパワー半導体メーカーからも注目を集めており、自社の生産アップグレードニーズに応じたカスタマイズウェハー加工および大量供給ソリューションについて問い合わせが寄せられています。